[发明专利]阵列基板及其制造方法有效
申请号: | 201210506090.2 | 申请日: | 2012-11-30 |
公开(公告)号: | CN103135304A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 金种宇;吴彰浩;柳元馨;白尚润;姜竣基;金钟勋 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1345;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供阵列基板及其制造方法。在该阵列基板中,在不使用绝缘膜或不使用绝缘膜和有机膜的情况下,形成焊盘区域的布线,使由于在高温环境中由于接触余量产生的电阻增加引起的异常驱动减到最少。该阵列基板包括:绝缘基板,该绝缘基板包括焊盘区域和薄膜晶体管(TFT)形成区域;形成在基板的焊盘区域中的第一电极层和交叠地形成在第一电极层上的第二电极。 | ||
搜索关键词: | 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,该阵列基板包括:绝缘基板,该绝缘基板包括焊盘区域和薄膜晶体管形成区域;第一电极层,其位于所述基板的所述焊盘区域中;以及第二电极层,其与所述第一电极层交叠地位于所述第一电极层上。
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