[发明专利]一种硬盘磁头晶片的生产方法无效
| 申请号： | 201210509547.5 | 申请日： | 2012-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN102982812A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 王冀康;王永康;范锡印 | 申请（专利权）人： | 新乡医学院 |
| 主分类号： | G11B5/127 | 分类号： | G11B5/127;C25D5/02 |
| 代理公司： | 新乡市平原专利有限责任公司 41107 | 代理人： | 于兆惠 |
| 地址： | 453002*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硬盘磁头晶片的生产方法。本发明的技术方案要点是：一种硬盘磁头晶片的生产方法，包括以下步骤：（1）在晶片上溅射黏附层，再溅射一层种子层，然后涂布光刻胶，曝光并显影所需图形，烘干；（2）依次进行三层合金层的电镀，其中前两层为难氧化或难腐蚀的合金层，去离子水清洗，褪除光刻胶，氩离子束刻蚀去除所要图形外的种子层；（3）涂布光刻胶保护所要的金属区，用酸溶液腐蚀不需要的金属，再溅射Al2O3晶体，研磨以暴露出合金层即形成硬盘磁头晶片。本发明采用多层合金分步电镀生产硬盘磁头晶片的方法具有工序步骤简单、工序时间短、控制参数少等优点，因此能为企业带来巨大的经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硬盘 磁头 晶片 生产 方法 | ||
【主权项】：
一种硬盘磁头晶片的生产方法，其特征在于包括以下步骤：（1）、在晶片上溅射黏附层，再溅射一层种子层，然后涂布光刻胶，曝光并显影所需图形，烘干；（2）、依次进行三层合金层的电镀，其中前两层合金层为难氧化或难腐蚀的合金层，去离子水清洗，褪除光刻胶，氩离子束刻蚀去除所要图形外的种子层；（3）、涂布光刻胶保护所要的金属区，用酸溶液腐蚀掉不需要的金属，再溅射Al2O3晶体，研磨以暴露出合金层即形成硬盘磁头晶片。
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