[发明专利]断线修补方法和断线修补结构有效

专利信息
申请号: 201210513181.9 申请日: 2012-12-04
公开(公告)号: CN102981291A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 郑文达 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/1362
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种断线修补方法和断线修补结构,其中,断线修补方法包括步骤:形成连接扫描线的断线两端的第一修补线;形成覆盖所述第一修补线的绝缘层;形成连接数据线的断线两端的第二修补线,所述第二修补线与第一修补线的交叉处具有所述绝缘层。本发明通过在修补的第一修补线和第二修补线之间隔离绝缘层,有效避免了扫描线和数据线断线交叉处发生短路,实现了同时修补两个金属层交叉处断线,提高了断线修补良率。
搜索关键词: 断线 修补 方法 结构
【主权项】:
一种断线修补方法,其特征在于,包括步骤:形成连接扫描线的断线两端的第一修补线;形成覆盖所述第一修补线的绝缘层;形成连接数据线的断线两端的第二修补线,所述第二修补线与第一修补线的交叉处具有所述绝缘层。
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