[发明专利]基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210530522.3 申请日: 2012-12-11
公开(公告)号: CN103866265A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 卢维尔;夏洋;李超波;解婧 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;H01L21/02
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,其包括:将基片放入原子层沉积设备的反应腔室中;进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在锌源沉积之前引入一次As掺杂源的沉积和氧源沉积之前引入一次氮掺杂源的沉积;循环沉积该多组分复合体,得到原子层沉积制备的N-As的双受主共掺的氧化锌薄膜。本发明提供的基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,利用ALD技术,在氧化锌薄膜生长的过程中,完成整个薄膜结构的共掺,得到N-As双受主的共掺。本发明制备工艺简单,沉积和掺杂过程易于控制,制备所得共掺氧化锌薄膜有利于氧化锌薄膜的p型掺杂和提高p型电学性质的稳定性。
搜索关键词: 基于 双受主共掺 氧化锌 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种基于氮的双受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,包括:将基片放入原子层沉积设备的反应腔室中;进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在锌源沉积之前引入一次As掺杂源的沉积和氧源沉积之前引入一次氮掺杂源的沉积;循环沉积该多组分复合体,得到原子层沉积制备的N‑As的双受主共掺的氧化锌薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210530522.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top