[发明专利]基于氮的施主-受主共掺氧化锌薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210531536.7 申请日: 2012-12-11
公开(公告)号: CN103866268B 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 卢维尔;夏洋;李超波;张阳;解婧;董亚斌 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;C23C16/44
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种基于氮的施主‑受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后依次进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后,分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂源的掺杂沉积、第二次锌源沉积、至少两次氮掺杂源沉积及至少两次氧源沉积,形成N‑X‑N的共掺;所述氮掺杂源沉积和所述氧源的沉积顺序是先氧源沉积,后氮掺杂源沉积;所述包含III主族元素施主掺杂源沉积与所述第二次锌源沉积顺序是先包含III主族元素施主掺杂源沉积,后第二次锌源沉积。该方法可以对氧化锌薄膜进行原位的施主‑受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化锌薄膜的p型转变。
搜索关键词: 沉积 氧化锌薄膜 次锌 共掺 施主掺杂 受主 复合沉积 氮掺杂 氧源 制备 反应腔室 腔室管道 受主元素 掺入量 掺杂源 次氮 次氧 放入 加热 掺杂 引入
【主权项】:
1.一种基于氮的施主‑受主共掺氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,包括:将基片放入ALD反应腔室中,将腔室抽真空,对基片及腔室管道进行加热,然后进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括:在真空环境下依次用第一次锌源、氧源、氮掺杂源、包含III主族元素X的施主掺杂源、第二次锌源、氧源和氮掺杂源进行沉积得到受主‑施主‑受主共掺的ZnO薄膜,所述第一次锌源、氮掺杂源、氧源、包含III主族元素X的施主掺杂源及第二次锌源在沉积室内暴露时间依次为0.15s、10s、0.07s、0.08s、0.08s;所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后,分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂源的掺杂沉积、第二次锌源沉积、至少两次氮掺杂源沉积及至少两次氧源沉积,形成N‑X‑N的共掺;所述氮掺杂源沉积和所述氧源的沉积顺序是先氧源沉积,后氮掺杂源沉积;所述包含III主族元素施主掺杂源沉积与所述第二次锌源沉积顺序是先包含III主族元素施主掺杂源沉积,后第二次锌源沉积。
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