[发明专利]一种紫外真零级波片及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201210532637.6 申请日: 2012-12-12
公开(公告)号: CN103048722A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 万一兵;吴秀榕 申请(专利权)人: 福州光诚光电有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/02;G02B1/11
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350000 福建省福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种紫外真零级波片及其制作方法,波片传统制作方法是将切成圆片后的石英晶体片抛光研磨,研磨至光波所需要达到的厚度。光波所要求达到的厚度一般都是非常微小,波片在研磨过程中非常容易破裂,并且做到紫外线波段所能达到的厚度难度非常大,而本发明在石英晶体圆片上光胶有融石英圆环,起到支撑的效果,使紫外波段的波片在制作过程中不易破裂,成品良率大大提高,改良激光波片,改善激光设备,推动医疗事业进步。
搜索关键词: 一种 紫外 真零级波片 及其 制作方法
【主权项】:
一种紫外真零级波片的制作方法,其特征在于,按以下步骤进行:(1)材料选择:圆环材料选用光学级的融石英,紫外线波段200nm到350nm透过率大于90%,圆片材料选用光学级的石英晶体,紫外线波段200nm到350nm透过率大于90%;(2)融石英材料切成长条状;(3)将长条状的融石英滚成圆棒状,其中圆棒直径为24~26mm;(4)将圆棒状的融石英切成圆片,其中圆片的厚度为1.1~1.3mm;(5)将圆片状的融石英中央钻孔,形成圆环状;(6)圆环状的融石英抛光加工:选用直径220mm的抛光基板,在抛光基板上放置40~50片融石英圆环,点胶上盘,先用400目的绿砂研磨2个小时,去除砂眼,然后高速抛光1小时,拉亮整个面,最后用沥青盘抛光3小时,抛光面要求面型达到0.25个光圈,光洁度达到20/10,完工后下盘清洗,再上盘将反面抛光加工,达到正面的效果,并且两面的平行度要求小于1秒;(7)石英晶体材料切成长条状;(8)将长条状的石英晶体滚成圆棒状,其直径与融石英圆环一致;(9)将圆棒状的石英晶体在光轴垂直的方向上磨一个2~3mm长的平台;(10)将圆棒状的石英晶体切成圆片,圆片厚度为1.1~1.3mm;(11)石英晶体圆片抛光加工:选用直径220mm的抛光基板,在基板上放置40~50片石英晶体圆片,点胶上盘,先用400目的绿砂研磨2个小时,去除砂眼,然后高速抛光1小时,拉亮整个端面,最后用沥青盘抛光3小时,抛光面要求面型达到0.25个光圈,光洁度达到20/10, 完工后下盘清洗,再上盘把反面抛光加工,达到正面的效果,并且两面的平行度要求小于1秒;(12)石英晶体圆片镀膜:石英晶体圆片一面镀上200~250nm厚的二氧化硅;(13)将镀有二氧化硅的石英晶体圆片与融石英圆环光胶;(14)将光胶好的波片组合体放置压力炉中深化,烘烤60~100个小时;(15)将组合体中的石英晶体面研磨抛光,使石英晶体圆片厚度为0.009~0.018mm;(16)波片镀减反膜:将波片组合体双面镀上紫外线波长的减反膜,要求减反率小于0.2%。
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