[发明专利]光刻系统以及光刻方法有效
| 申请号： | 201210537189.9 | 申请日： | 2012-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103869629A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 伍强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 马景辉 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻系统以及光刻方法。根据本发明的光刻方法包括以下步骤：使掩膜在与掩膜表面平行的平面内进行振荡运动，使表面涂敷有光致抗蚀剂的晶圆在与晶圆表面平行的平面内进行振荡运动，其中晶圆表面与掩膜表面彼此平行并且掩膜的振荡运动与晶圆的振荡运动彼此同步；根据晶圆和掩膜的速度来调节照明光束的强度；以及使用调节后的照明光束照射掩膜和晶圆的至少一部分，从而在晶圆表面获得所希望的光致抗蚀剂图案。根据本发明的光刻系统和光刻方法能够减小能耗，提高扫描速度和效率，增加半导体器件的产量。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种晶圆载物台，包括：晶圆承载部，用于放置晶圆；以及驱动装置，用于驱动晶圆承载部，使得晶圆承载部在与晶圆表面平行的平面内进行振荡运动。
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