[发明专利]一种基板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201210540524.0 申请日: 2012-12-13
公开(公告)号: CN103034061A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 周子卿;李正勋;金基用;贠向南;许朝钦;孙亮 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供了一种基板的制作方法,涉及显示技术领域,可避免或减少光刻胶涂布时涂布不良的发生率,进而提高量产产品良率;所述基板的制作方法包括:在透明基板上制作第一薄膜,并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处,形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案,同时在显示区域形成显示用图案;其中,所述第一薄膜为所述至少两层薄膜中除最后一层薄膜外的任一层;所述第一边缘与光刻胶涂布方向垂直,所述第一辅助图案沿所述光刻胶涂布方向的横截面的至少一侧边为阶梯状。用于显示面板的制造。
搜索关键词: 一种 制作方法
【主权项】:
一种基板的制作方法,包括:在透明基板上制作至少两层薄膜,并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案;其特征在于,在透明基板上制作至少两层薄膜,并分别通过构图工艺在显示区域形成显示用图案包括:在透明基板上制作第一薄膜,并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处,形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案,同时在显示区域形成显示用图案;其中,所述第一薄膜为所述至少两层薄膜中除最后一层薄膜外的任一层;所述第一边缘与光刻胶涂布方向垂直,所述第一辅助图案沿所述光刻胶涂布方向的横截面的至少一侧边为阶梯状。
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