[发明专利]一种氧化锌薄膜的制备方法在审
申请号: | 201210545161.X | 申请日: | 2012-12-14 |
公开(公告)号: | CN103866284A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 解婧;李超波;夏洋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/56;C23C16/40 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种氧化锌薄膜的制备方法,包括如下步骤:(1)向放置衬底的原子层沉积设备反应腔中通入含锌前驱体源,含锌前驱体源中的锌原子吸附于衬底表面;(2)通入含氮前驱体源,然后通过等离子体将含氮前驱体源电离,或将经过等离子体电离的含氮前驱体源通入反应腔中,电离后含氮前驱体源中的氮原子部分沉积,与衬底表面的锌原子形成氮锌共价键;(3)重复步骤(1)和步骤(2)即可逐层生长氮化锌薄膜;(4)将氮化锌薄膜进行热氧化,或者向反应腔中通入含氧前驱体源,获得氧化锌薄膜。本发明通过等离子体将氮源引入原子层沉积系统,先获得带隙可调控的优质氮化锌薄膜,再以氮化锌薄膜为原料制备优质P型氧化锌薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化锌 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;(2)向所述原子层沉积设备反应腔中通入含锌前驱体源,所述含锌前驱体源中的锌原子吸附于所述衬底表面;(3)向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氮前驱体源,然后通过等离子体将所述含氮前驱体源电离,电离后所述含氮前驱体源中的氮原子部分沉积,与所述衬底表面的锌原子形成氮锌共价键;或,通过等离子体将含氮前驱体源电离,然后将电离的所述含氮前驱体源通入所述原子层沉积设备反应腔中,电离后所述含氮前驱体源中的氮原子部分沉积,与所述衬底表面的锌原子形成氮锌共价键;(4)重复所述步骤(2)和步骤(3)即可逐层生长氮化锌薄膜;(5)将所述氮化锌薄膜进行热氧化,或者向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氧前驱体源,实现氧替位氮的有效掺杂,得到氧化锌薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的