[发明专利]一种掩膜板及其制作方法

摘要

本发明实施例提供了一种掩膜板及其制作方法，该掩膜板，应用于大尺寸接近式曝光机光学系统，该掩膜板包括多个区域，每个区域为以掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。在本发明实施例中，在接近式曝光机光学系统曝光时，由于掩膜板上离掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高，这样就使得这些区域的曝光量较高，可以相对弥补此区域的曝光间距较小对图形尺寸的影响，从而提高曝光出的图形尺寸的均一度。

主权项

一种掩膜板，应用于大尺寸接近式曝光机光学系统，其特征在于，所述掩膜板包括多个区域，每个区域为以所述掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离所述掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离所述掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。