[发明专利]高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201210551569.8 申请日: 2012-12-18
公开(公告)号: CN103042766A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 金闯;杨晓明 申请(专利权)人: 斯迪克新型材料(江苏)有限公司
主分类号: B32B15/082 分类号: B32B15/082;B32B15/20;C23C14/35;C23C14/20;C23C14/16
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 马明渡
地址: 223900 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺,包括一基材层,此基材层一表面磁控溅射有第一金属铟层,此第一金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层,此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层;制备一塑料基膜;在步骤一的塑料基膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层;在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层;然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层。本发明防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线,隔热效果显著,又能更好的保护磁控溅射金属层,防止金属氧化,提高和保证了产品的性能和使用寿命,从而可适用于要求更高的场所;本发明同时提供上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺。
搜索关键词: 高透高 隔热 节能 防爆膜 及其 制备 工艺
【主权项】:
一种高透高隔热节能防爆膜,其特征在于:包括一基材层(1),此基材层(1)一表面磁控溅射有第一金属铟层(2),此第一金属铟层(2)另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层(31)或金属铝层(32),此金属银层(31)或金属铝层(32)另一表面磁控溅射有第二金属铟层(4);所述第一金属铟层厚度为2~15nm,所述金属银层或金属铝层厚度为8~55nm,所述第二金属铟层5~20nm。
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