[发明专利]成膜装置无效
| 申请号： | 201210552799.6 | 申请日： | 2012-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN103205718A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 筑后了治 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 温旭;郝传鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜装置，其提高成膜处理的稳定性。本发明的成膜装置（1）通过等离子体束（P）加热成膜材料（Ma），使从成膜材料（Ma）气化后的成膜材料粒子（Mb）附着在基板（11）上来成膜，其具备：真空容器（10），形成真空环境；主阳极（3），配置于真空容器（10）内，保持成膜材料，并且进行等离子体束（P）的引导；辅助阳极（4），以包围主阳极（3）的方式配置，且辅助由主阳极（3）进行的等离子体束（P）的引导，所述成膜装置中,辅助阳极（4）与真空容器（10）电性短路。由此，即使在成膜处理中产生导电性附着物的掉落等，也能够防止辅助阳极的电位的变化。其结果，能够防止成膜条件的变化，并能够提高成膜处理的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种成膜装置，其通过等离子体束加热成膜材料，使从所述成膜材料气化后的粒子附着在被成膜物上来成膜，其特征在于，所述成膜装置具备：真空容器，形成真空环境；主阳极，配置于所述真空容器内，保持所述成膜材料，并且进行所述等离子体束的引导；及辅助阳极，以包围所述主阳极的方式配置，且辅助由所述主阳极进行的所述等离子体束的引导，所述辅助阳极与所述真空容器电性短路。
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