[发明专利]电解铜阳极浅氧化制备工艺无效
| 申请号： | 201210554213.X | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103031570A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 田开斌;潘华;胡怀安 | 申请（专利权）人： | 重庆重冶铜业有限公司 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 40276*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 一种电解铜阳极浅氧化制备工艺，以改善现有技术的效率。本方案中的电解铜阳极浅氧化制备工艺，包括顺序进行的氧化精炼流程和脱氧还原流程，其特征在于：在氧化精炼流程中，当氧化亚铜的含量达到3-5%即进入下一步脱氧还原流程。铜原料不同，氧化的程度也不一样。在氧化精炼过程中，通常要求铜液中含一定量的氧化亚铜，约8%左右，在此状态下需保证杂质已基本除去完全，但下一步脱氧还原需要大量的还原剂，造成冶炼时间延长，不必要的氧化亚铜含量造成了工艺的浪费。 | ||
| 搜索关键词： | 电解铜 阳极 氧化 制备 工艺 | ||
【主权项】：
电解铜阳极浅氧化制备工艺，包括顺序进行的氧化精炼流程和脱氧还原流程，其特征在于：在氧化精炼流程中，当氧化亚铜的含量达到3‑5%即进入下一步脱氧还原流程。
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