[发明专利]一种清洗液及其应用在审
| 申请号： | 201210557287.9 | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103882444A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 张建;荆建芬;周文婷;蔡鑫元;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/00 | 分类号： | C23G1/00 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于金属化学机械抛光后的清洗液，其包含至少一种有机酸、一种氨羧络合剂、一种羧酸类聚合物以及一种非离子表面活性剂。该清洗液可用于对含有金属的晶片抛光后的表面清洗。可将抛光后残留在晶片表面的研磨颗粒、金属离子、腐蚀抑制剂去除，降低晶片表面粗糙度,改善清洗后晶片表面的亲水性，降低表面缺陷，并且可以防止金属表面的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种清洗液，其包括至少一种有机酸，氨羧络合剂，至少一种羧酸类聚合物和/或其盐，以及一种非离子表面活性剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210557287.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
