[发明专利]介质处理装置无效
| 申请号： | 201210558752.0 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN103295595A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 久下英七 | 申请（专利权）人： | 冲电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/41 | 分类号： | G11B5/41 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王轶;李洋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种介质处理装置，利用简单的结构除去磁头表面的附着物。该介质处理装置具备：磁头；和引导部件，其设于与上述磁头对置的一侧，上述磁头以在上述引导部件的引导面滑动的方式而在具有磁条的介质的处理位置与初始位置之间移动，上述引导面在上述磁头的移动路径上具有除去上述磁头的附着物的清扫区域。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种介质处理装置，其特征在于，该介质处理装置具备：磁头；和引导部件，其设于与所述磁头对置的一侧，所述磁头以在所述引导部件的引导面滑动的方式而在具有磁条的介质的处理位置与初始位置之间移动，所述引导面在所述磁头的移动路径上具有除去所述磁头的附着物的清扫区域。
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