[发明专利]水分浓度测定装置的校正方法以及校正装置有效

专利信息
申请号: 201210559707.7 申请日: 2012-12-20
公开(公告)号: CN103175799B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 井户琢也;森哲也 申请(专利权)人: 株式会社堀场制作所
主分类号: G01N21/3504 分类号: G01N21/3504;G01N21/27;G01N21/85
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 徐晓静
地址: 日本京都府京*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明通过比较容易的操作来准确地进行水分浓度测定值的校正。校正方法是对使用照射部(2)来测定气体中的水分浓度的气体分析装置(100)进行校正的方法。该方法包括以下工序。基于待测定浓度的水分的吸收光谱的强度与可由照射部(2)测定的且已知其与待测定浓度的水分的吸收光谱的强度之间关系的其它成分气体之间的关系、和测定其它成分气体得到的吸收光谱的强度,来校正水分浓度测定值。
搜索关键词: 水分 浓度 测定 装置 校正 方法 以及
【主权项】:
一种水分浓度测定装置(100)的校正方法,其为利用光源(2)来测定气体中的水分浓度的水分浓度测定装置(100)的校正方法,其特征在于,基于待测定浓度的水分的吸收光谱的强度与其它成分气体的吸收光谱的强度之间关系、和通过测定所述其它成分气体得到的吸收光谱的强度来校正水分浓度测定值,所述其它成分气体的吸收光谱的强度能够由所述光源(2)测定,且所述其它成分气体的吸收光谱的强度与所述待测定浓度的水分的吸收光谱的强度之间关系是已知的;在校正所述水分浓度测定值的过程中,包含:在校正环境中使用所述光源(2)来测定所述其它成分气体的吸收光谱的强度;基于朗伯‑比尔定律,采用在所述校正环境中用所述光源(2)测定的所述其它成分气体的吸收光谱的强度,利用所述光源(2)将测定光照射到测定环境中的所述其它成分气体,由此得到所述其它成分气体的吸收光谱,并基于该吸收光谱的强度校正水分浓度测定值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社堀场制作所,未经株式会社堀场制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210559707.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top