[发明专利]水分浓度测定装置的校正方法以及校正装置有效
申请号: | 201210559707.7 | 申请日: | 2012-12-20 |
公开(公告)号: | CN103175799B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 井户琢也;森哲也 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场制作所 |
主分类号: | G01N21/3504 | 分类号: | G01N21/3504;G01N21/27;G01N21/85 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人: | 徐晓静 |
地址: | 日本京都府京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明通过比较容易的操作来准确地进行水分浓度测定值的校正。校正方法是对使用照射部(2)来测定气体中的水分浓度的气体分析装置(100)进行校正的方法。该方法包括以下工序。基于待测定浓度的水分的吸收光谱的强度与可由照射部(2)测定的且已知其与待测定浓度的水分的吸收光谱的强度之间关系的其它成分气体之间的关系、和测定其它成分气体得到的吸收光谱的强度,来校正水分浓度测定值。 | ||
搜索关键词: | 水分 浓度 测定 装置 校正 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种水分浓度测定装置(100)的校正方法,其为利用光源(2)来测定气体中的水分浓度的水分浓度测定装置(100)的校正方法,其特征在于,基于待测定浓度的水分的吸收光谱的强度与其它成分气体的吸收光谱的强度之间关系、和通过测定所述其它成分气体得到的吸收光谱的强度来校正水分浓度测定值,所述其它成分气体的吸收光谱的强度能够由所述光源(2)测定,且所述其它成分气体的吸收光谱的强度与所述待测定浓度的水分的吸收光谱的强度之间关系是已知的;在校正所述水分浓度测定值的过程中,包含:在校正环境中使用所述光源(2)来测定所述其它成分气体的吸收光谱的强度;基于朗伯‑比尔定律,采用在所述校正环境中用所述光源(2)测定的所述其它成分气体的吸收光谱的强度,利用所述光源(2)将测定光照射到测定环境中的所述其它成分气体,由此得到所述其它成分气体的吸收光谱,并基于该吸收光谱的强度校正水分浓度测定值。
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