[发明专利]待曝光基材及底片的对位方法及影像检测对位系统有效
| 申请号： | 201210559900.0 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN103034072A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 徐嘉伟;王启毓;张茂和 | 申请（专利权）人： | 志圣科技（广州）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 | 代理人： | 任琳 |
| 地址： | 510850 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种待曝光基材及底片的对位方法及其影像检测对位系统，旨在提供一种在待曝光基材及底片中，无需特殊的对位标靶，就可精确对位的方法及检测系统；其技术要点：至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作，该方法包括下述步骤：（a）每个摄影单元分别拍摄一张影像，每张影像的视野范围包括基材边缘及底片边界；（b）控制装置定位出步骤（a）中影像的基材边缘及底片边界；（c）控制装置根据步骤（b）中定位的基材边缘及该底片边，计算一偏移量；（d）控制装置根据步骤（c）计算的偏移量驱动调整机构，并依次调整基材及该底片的相对位置，使该基材及该底片彼此对齐；属于影像技术领域。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 基材 底片 对位 方法 影像 检测 系统 | ||
【主权项】：
一种待曝光基材及底片的对位方法，其特征在于，至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作，所述的控制装置控制调整机构以调整该基材及该底片的相对位置，该方法包括下述步骤：（a）每个摄影单元分别拍摄一张影像，每张影像的视野范围包括基材边缘及底片边界；（b）控制装置定位出步骤（a）中影像的基材边缘及底片边界；（c）控制装置根据步骤（b）中定位的基材边缘及该底片边，计算一偏移量；（d）控制装置根据步骤（c）计算的偏移量驱动调整机构，并依次调整基材及该底片的相对位置，使该基材及该底片彼此对齐。
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