[发明专利]一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法

摘要

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法，它涉及一种氧化钽及其制备方法，它的制备方法为：将氧化钽和氧化钛的粉体经充分混合、压块，经100～300℃烘干，成为坯料，将坯料装入坩埚中，再将坩埚放置于发热体内、在发热体之外包围有上保温层、四周保温层和下保温层，在该四周保温层之外设置感应耦合线圈，感应耦合线圈通过电磁耦合感应，坩埚与发热体被动加热，使坩埚温度升高，使坩埚内坯料充分熔化；再采用梯度降温工艺让坩埚内坯料缓慢生长成晶体，然后关断电源，随炉降至室温，即可获得所需的晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽。它使氧化钽镀膜材料折射率提高，密度上升，质地由原来的陶瓷质地改变为晶体质地的材料。

主权项

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法，其特征在于它的制备方法包括以下步骤：步骤一，晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽的坯料配制：选用重量比为60‑95％氧化钽和5‑40％氧化钛的粉体经充分混合、压块，经100～300℃烘干，成为坯料(21)。步骤二，将所述的坯料(21)装入感应耦合加热装置的坩埚(22)中，再将坩埚(22)放置于发热体(23)内、在发热体(23)之外包围有上保温层(24)、四周保温层(25)和下保温层(26)，在该四周保温层(25)之外设置感应耦合线圈(27)，该感应耦合线圈(27)与感应电源相连，整个感应耦合加热装置置于真空炉中。步骤三，感应耦合线圈(27)通过电磁耦合感应，坩埚(22)与发热体(23)被动加热，使坩埚(22)温度升高，坩埚(22)内的坯料(21)温度升至恒温温度1800～2000℃，在高温恒温阶段，炉内真空度为4～20Pa，恒温3～6小时，使坩埚(22)内坯料(21)充分熔化；再采用梯度降温工艺让坩埚(22)内坯料(21)缓慢生长成晶体，长晶过程需10‑12小时，然后关断电源，随炉降至室温，即可获得所需的晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽。