[发明专利]一种铜铟镓硒共蒸发线性源装置及其使用方法有效
申请号: | 201210570207.3 | 申请日: | 2012-12-25 |
公开(公告)号: | CN103898450B | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 于大洋;王葛;丁建 | 申请(专利权)人: | 北京创昱科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/06;H01L31/18 |
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地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种铜铟镓硒共蒸发线性源装置及其使用方法,具体涉及一种可调节弯曲度的分节式的铜铟镓硒共蒸发线性源装置及其使用方法。该装置包括若干组平行的线性源,所述线性源为可调节弯曲度的分节式线性源。该装置很好地解决了因玻璃基板自重下垂而导致玻璃基板与线源距离发生变化从而引起的镀膜不均匀的问题,改善了工艺效果,并且其结构简单,容易实现,适用于工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒共 蒸发 线性 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种铜铟镓硒共蒸发线性源装置,包括若干组平行的线性源,其特征在于,所述线性源为可调节弯曲度的分节式线性源;所述分节式线性源两端设有横向拉伸调节器,通过关节螺栓和旋转关节与分节式线性源的两端可旋转连接;相邻两节单节线性源之间的所述关节螺栓上设有纵向拉伸调节器。
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