[发明专利]用于半导体集成制造生产线中的连续干燥模块有效
申请号: | 201210572111.0 | 申请日: | 2012-12-25 |
公开(公告)号: | CN103050426A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 王奉瑾 | 申请(专利权)人: | 王奉瑾 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 528400 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及半导体集成制造领域,尤其涉及用于半导体集成制造生产线中的连续干燥模块。本发明提供了用于半导体集成制造生产线中的连续干燥模块,通过在所述壳体的两侧开设供所述传输带通过的入口和出口,并于所述入口和出口处设置动态夹持所述传输带的滚筒组,使得所述传输带由所述入口和出口通过所述壳体时,所述壳体与传输带呈现动态密封的效果。本发明的连续干燥模块可实现对光半导体基板实现连续干燥作用,且干燥过程中可对壳体内的气体质量实施实时的控制,同时实现了半导体集成制造生产线中干燥工艺的模块化设计。 | ||
搜索关键词: | 用于 半导体 集成 制造 生产线 中的 连续 干燥 模块 | ||
【主权项】:
用于半导体集成制造生产线中的连续干燥模块,包括一壳体,其特征在于:所述壳体横向两侧分别设有供传输带通过的入口和出口,且所述传输带将所述壳体分隔成上腔与下腔,所述壳体之入口和出口处分别设有动态夹持所述传输带的滚筒组,各所述滚筒组包括贴设于所述传输带上侧的上滚筒和贴设于所述传输带下侧的下滚筒,所述壳体上还设有驱动所述滚筒组运转的伺服电机,所述下腔的侧壁开设有进气孔与排气孔,所述进气孔和排气孔配套设有进气控制阀和排气控制阀,所述下腔内设有加热装置,该连续干燥模块还包括干燥控制系统,所述干燥控制系统包括设于所述上腔内且实时监测所述上腔内气压的气压计、设于所述上腔内且实时监测所述上腔内温度的温度计、设于所述上腔内且实时监测湿度的湿度计及控制所述加热装置、进气控制阀和排气控制阀工作状态的控制器,所述控制器分别与所述进气控制阀、排气控制阀、伺服电机、加热装置、气压计、温度计及湿度计电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王奉瑾,未经王奉瑾许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210572111.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种使预制承台与多根固定钢管桩相互定位的系统
- 下一篇:一种沉箱仓格封仓装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造