[发明专利]抗蚀剂添加剂及包含它的抗蚀剂组合物

摘要

本发明提供一种由下式（1）表示的抗蚀剂添加剂，以及包含该添加剂的抗蚀剂组合物。根据本发明的添加剂在应用到抗蚀剂组合物时通过在曝光中增加抗蚀剂膜的表面疏水性而能够在浸没式光刻工艺过程中抑制由水引起的浸出，并且在应用到抗蚀剂组合物时能够形成具有优异的敏感度和分辨率的精细的抗蚀剂图案：[化学式1]其中各取代基分别具有与上述定义相同的含义。

主权项

1.由下式（1）表示的抗蚀剂添加剂：[化学式1]其中在式（1）中，R’、R”和R’”各自独立地表示选自氢原子、C₁-C₄烷基、卤原子和C₁-C₄卤代烷基的基团，在所述C₁-C₄卤代烷基中烷基中的一个氢原子被卤素原子所取代；R₁和R₂各自独立地表示氢原子或者C₁-C₈烷基；R₃表示选自氢原子和下式（2）和（3）表示的官能团的基团：[化学式2][化学式3]其中在式（2）和（3）中，R₂₁表示氢原子或者选自C₁-C₂₀烷基、（C₁-C₂₀烷氧基）烷基、C₃-C₃₀环烷基、甲酰基、（C₁-C₂₀烷基）羰基、（C₃-C₃₀环烷基）羰基、（C₁-C₂₀烷基）羧基、和（C₃-C₃₀环烷基）羧基的羟基保护基团；R₃₁表示选自C₁-C₂₀卤代烷基、有机硅基团和C₃-C₂₀烃基的疏水基团，以使如果R₃₁表示有机硅基团，p表示0，而如果R₃₁表示C₁-C₂₀卤代烷基或C₃-C₂₀烃基，p表示1；R₂₂和R₃₂各自独立地表示选自C₁-C₂₀亚烷基、C₂-C₂₀亚烯基、C₁-C₂₀杂亚烷基、C₂-C₂₀杂亚烯基、C₃-C₃₀亚环烷基、C₃-C₃₀亚环烯基、C₂-C₃₀杂环烷二基和C₃-C₃₀杂环烯二基的基团；R₂₃和R₃₃各自独立地表示选自和的酸不稳定性基团，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自独立地表示选自C₁-C₂₀烷基、C₃-C₃₀环烷基、（C₁-C₁₀烷基）环烷基、羟基烷基、C₁-C₂₀烷氧基、（C₁-C₁₀烷氧基）烷基、乙酰基、乙酰基烷基、羧基、（C₁-C₁₀烷基）羧基、（C₃-C₁₈环烷基）羧基和C₃-C₃₀杂环烷基的基团，或者R_a、R_b、R_c和R_d相邻基团可以彼此结合形成C₃-C₃₀饱和或不饱和烃环或C₂-C₃₀杂环基团；x表示0-3的整数；y表示0-10的整数；R₄表示选自C₁-C₂₀卤代烷基、有机硅基团和C₃-C₂₀烃基的疏水性基团；R₅表示选自氢原子、C₁-C₂₀烷基、C₂-C₂₀烯基、C₃-C₃₀环烷基、C₃-C₃₀环烯基、C₆-C₃₀芳基、C₁-C₂₀杂烷基、C₂-C₃₀杂环基团及其组合的基团；l、m、n和o分别表示主链中相应的重复单元的比例，以使l+m+n+o=1，同时0<l/(l+m+n+o)<0.9，0.2<m/(l+m+n+o)<0.9，0≤n/(l+m+n+o)<0.9和0≤o/(l+m+n+o)<0.9，条件是当R₃表示氢原子或者由式（2）表示的官能团时，n不是0；和p表示0或1的整数。