[发明专利]X射线荧光分析中熔片稀释比的测定方法及其应用

摘要

本发明是关于一种X射线荧光分析中熔片稀释比的测定方法及其应用。该测定方法为将被测试样品和熔剂混合后制备为熔片，对上述熔片进行X射线荧光分析，赋予上述熔片的稀释比一个初值R1；按照公式进行多次迭代，直到样品中各元素浓度之和处在预设范围值之内，然后计算得到样品的实际稀释比。本发明X射线荧光分析中熔片稀释比的测定方法其可以获得样品中实际的稀释比，克服了现有技术中烧失量对稀释比的影响，从而可以获得更加准确的分析结果。并使X射线荧光分析方法可以应用在水泥样品的检测中。

主权项

一种X射线荧光分析中熔片稀释比的测定方法，其特征在于：步骤1，将被测试样品和熔剂混合后制备为玻璃熔片，该玻璃熔片的稀释比为R；步骤2，对上述玻璃熔片进行X射线荧光分析，得到样品中所含元素种类及该元素的X射线荧光相对强度；步骤3，赋予上述玻璃熔片的稀释比R一个初值R1；步骤4，样品中各元素的浓度值符合下述公式：C_i＝K_i×I_i×(1+∑α_i,j×C_j)  (1)C_i为元素i的浓度，I_i为元素i的X射线荧光相对强度，K_i为稀释比为R1时的标准工作曲线的斜率，α_i,j为基体元素j对元素i的影响系数，C_j为基体元素j的浓度，由公式(1)计算得到样品中各个元素的浓度值；步骤5，计算步骤4得到的各个元素的浓度值之和∑C_i，如果∑C_i处于预设范围值之内，则上述赋予玻璃熔片的稀释比R的初值R1即为玻璃熔片的实际稀释比；如果∑C_i不在预设范围值之内，则进行步骤6；步骤6，按照如下公式(2)进行浓度校正，按照公式(3)进行荧光相对强度校正，C_i校＝C_i×100/∑C_i  (2)I_i校＝C_i校×(1+∑α_i,j×C_j)/K_i  (3)C_i校为经过校正的元素i的浓度值，I_i校为经过校正的元素i的荧光相对强度；步骤7，按照公式(4)再次获得样品各元素的浓度值，C_i’＝K_i×I_i校×(1+∑α_i,j×C_j)  (4)；步骤8，计算步骤7得到的各个元素的浓度值之和∑C_i’，并判断该浓度值之和∑C_i’是否在预设范围内；步骤9，如果∑C_i’不在预设范围值之内，则令C_i＝C_i’，并重复步骤6至步骤8，直到浓度值之和∑C_i’处在预设范围值之内，将最后一次得到的I_校带入公式(5)即可得到玻璃熔片的实际稀释比R，R＝(I_校×(1+R1×α_i,j)/I_i‑1)/α_i,j  (5)。