[发明专利]一种相变存储用Sb-Te-W相变靶材及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210574529.5 申请日: 2012-12-26
公开(公告)号: CN103898452A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 夏扬;谢元锋;吕宏;王玉民;姜珩;李屹民 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/14;H01L45/00
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘徐红
地址: 100088 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种相变存储用Sb-Te-W相变靶材及其制备方法。该靶材的化学通式为SbxTeyW1-x-y,其中0<x<1,0<y<1,且x+y<1,0.67≤x/y≤4,W质量分数不超过10%。采用包套密封真空熔炼合成中间化合物,双向压制真空热压烧结制备Sb-Te-W相变靶材。本发明可有效解决合金熔炼时由于组元熔点、密度差异导致的材料成分不均匀等问题,获得高致密、高稳定、高纯相变靶材。相比目前广泛应用的Ge2Sb2Te5材料,本发明的Sb-Te-W系列相变材料结晶温度更高、熔点更低,用作相变存储材料时热稳定性和数据保持力更佳。
搜索关键词: 一种 相变 存储 sb te 及其 制备 方法
【主权项】:
一种相变存储用Sb‑Te‑W相变靶材,其特征在于:它的化学通式为SbxTeyW1‑x‑y,其中0<x<1,0<y<1,且x+y<1,0.67≤x/y≤4,W质量分数不超过10%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京有色金属研究总院,未经北京有色金属研究总院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210574529.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top