[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理装置用的顶板

摘要

本发明涉及一种等离子体处理装置以及等离子体处理装置用的顶板。该顶板设置在可抽真空的处理容器的顶部，可使从排列设置的平面天线构件的狭缝中放射出的微波透过到处理容器内，具有在顶板的面对处理容器内的一面放射状地设置的多个突起部，顶板在顶板的面对处理容器内的一面朝向顶板内部形成有多个凹部，凹部具有以等角度间隔沿着一个圆排列的内侧微波传播控制凹部和沿着一个圆排列的外侧微波传播控制凹部，内侧微波传播控制凹部的数量对应于与狭缝的数量相同的数量。根据上述等离子体处理装置以及等离子体处理装置用的顶板，可使处理空间的水平面方向上的等离子体密度均一化。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：在顶部开口并可抽真空的处理容器；微波发生部，其发生等离子体发生用的微波；平面天线构件，其具有多个狭缝，该多个狭缝在上述顶部的开口处设置，并用于向上述处理容器内导入来自上述微波发生部的微波；以及顶板，其气密地设置在上述顶部的开口处，使从上述平面天线构件的狭缝中放射出的微波透过并导入到上述处理容器内，上述顶板在上述顶板的面对上述处理容器内的一面朝向上述顶板内部形成有多个凹部，上述凹部具有以等角度间隔沿着一个圆排列的内侧微波传播控制凹部和沿着一个圆排列的外侧微波传播控制凹部，上述内侧微波传播控制凹部的数量对应于与上述狭缝的数量相同的数量。