[发明专利]成膜方法

摘要

本发明提供一种成膜方法，其是在成膜装置中进行的成膜方法，该成膜装置包括用于载置多个晶圆的旋转台；在旋转台的上方划分的第一反应气体供给区域、第二反应气体供给区域；以及用于分离第一反应气体供给区域和第二反应气体供给区域的分离区域，该成膜方法包括如下步骤：不向第二反应气体供给区域供给反应气体，向第一反应气体供给区域供给第一反应气体，通过旋转台的旋转使晶圆暴露于第一反应气体，从而使该气体吸附于晶圆表面；接着该步骤，不向第一反应气体供给区域供给反应气体，向第二反应气体供给区域供给第二反应气体，通过旋转台的旋转使晶圆暴露于第二反应气体，从而使吸附于晶圆表面的第一反应气体与第二反应气体反应。

主权项

一种成膜方法，其在成膜装置中进行，该成膜装置包括：旋转台，其以能够旋转的方式收容在真空容器内，在其表面具有用于载置多个基板的载置部；第一气体供给部，其配置于上述旋转台的上述表面的第一处理区域，用于向上述旋转台的上述表面供给反应气体；第二气体供给部，其配置于沿上述旋转台的周向与上述第一处理区域分开的第二处理区域，用于向上述旋转台的上述表面供给反应气体；分离区域，其在上述真空容器内设于上述第一处理区域和上述第二处理区域之间，该分离区域包括用于向上述旋转台的上述表面供给分离气体的分离气体供给部，其中，该成膜方法包括如下步骤：吸附步骤：一边使上述旋转台旋转，一边自上述分离气体供给部供给上述分离气体而将上述第一处理区域和上述第二处理区域分离，并且不自上述第二气体供给部供给反应气体，自上述第一气体供给部以规定的期间供给第一反应气体，从而使上述第一反应气体吸附于上述基板之上；反应步骤：一边使上述旋转台旋转，一边自上述分离气体供给部供给上述分离气体而将上述第一处理区域和上述第二处理区域分离，并且不自上述第一气体供给部供给反应气体，自上述第二气体供给部以规定的期间供给第二反应气体，使吸附于上述基板之上的上述第一反应气体与上述第二反应气体反应，从而在上述基板之上形成上述第一反应气体和上述第二反应气体的反应生成物的第一薄膜。