[发明专利]衬底支撑结构及沉积装置无效
| 申请号： | 201210580878.8 | 申请日： | 2012-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN103074673A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 林翔 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/10;C30B29/40 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种衬底支撑结构，所述衬底支撑结构包括载板，所述载板上具有温度补偿板，所述温度补偿板内具有通孔，所述通孔用于收容衬底，所述温度补偿板背离所述载板的表面形成有保护层，所述保护层用以抑制或防止所述温度补偿板背离所述载板的表面发生III-V族化合物外延沉积。本发明还涉及一种沉积装置，所述沉积装置包括可密闭的反应腔、所述的衬底支撑结构、用于向所述衬底供给原料气体的气体供给机构、用于加热所述衬底的加热机构，本发明的所述衬底支撑结构或沉积装置能够减少或避免原料气体的浪费，从而节约原料气体，同时也减少对所述温度补偿板的清洁。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 支撑 结构 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种衬底支撑结构，用于在沉积III‑V族化合物的工艺中支撑衬底，其特征在于：所述衬底支撑结构包括载板，所述载板上具有温度补偿板，所述温度补偿板内具有通孔，所述通孔用于收容衬底，所述温度补偿板背离所述载板的表面形成有保护层，所述保护层用以抑制或防止所述温度补偿板背离所述载板的表面发生III‑V族化合物外延沉积。
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