[发明专利]高分子聚合物及相关电解液与电化学腐蚀工艺有效
| 申请号： | 201210586711.2 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN103044589B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 赵大成;曹勇飞 | 申请（专利权）人： | 深圳新宙邦科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C08F28/02 | 分类号： | C08F28/02;C25F3/04;H01G9/055 |
| 代理公司： | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人： | 张明 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高分子聚合物，以及含有该高分子化合物的电化学腐蚀用电解液以及使用该电化学腐蚀用电解液的铝电解电容器的阳极箔腐蚀工艺。该工艺能有效提高铝电解电容器阳极铝箔的有效面积，扩大铝电解电容器的比容。所述高分子聚合物由含有乙烯基与磺酸基的单体均聚或共聚而成而成，所述高分子聚合物的分子量为10’000～1’000’000。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 聚合物 相关 电解液 电化学 腐蚀 工艺 | ||
【主权项】：
一种电化学腐蚀用电解液，其特征在于，所述电解液包括酸溶液以及可溶性高分子聚合物，所述可溶性高分子聚合物由含有乙烯基与磺酸基的单体均聚或共聚而成，所述高分子聚合物的分子量为300’000～550’000，所述单体选自CH3‑CH＝CH‑SO3Na、CH2＝CH‑SO3Na、CH3‑CH2‑CH＝CH‑SO3Na或CH3‑CH＝CH‑CH2‑SO3Na。
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