[发明专利]一种激光退火装置及其操作方法在审
申请号: | 201210589265.0 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103894734A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 王成才;鲁武旺;兰艳平;刘国淦 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | B23K26/064 | 分类号: | B23K26/064;B23K26/08;H01L21/26 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提出一种激光退火装置,其特征在于,沿光路依次包括:激光器、准直系统、扩束系统、匀光系统、分光聚焦系统、步进单元、工件台单元、能量监测单元以及轮廓监测系统;其中,所述步进单元控制曝光光斑进行步进运动,所述工件台单元控制硅片进行扫描运动。本发明将工件台进行简化,工件台仅带动硅片进行扫描运动,而使最后的线性光斑(即分光聚焦系统)进行步进运动,从而可以降低工件台的结构设计复杂程度和成本;同时,由于分光聚焦系统在尺寸和空间大小上都远小于工件台,这样相应的导轨、电机以及冲击力和可靠性等都会有显著的简化,空间和成本得到显著的提高。本发明还公开了该激光退火装置的操作方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 退火 装置 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
一种激光退火装置,其特征在于,沿光路依次包括:激光器、准直系统、扩束系统、匀光系统、分光聚焦系统、步进单元、工件台单元、能量监测单元以及轮廓监测系统;从激光器出射的激光,依次经过准直系统、扩束系统、匀光系统后,经分光聚焦系统入射到硅片上;小部分能量经分光后分别入射到能量监测单元和轮廓监测系统;其中,所述步进单元控制曝光光斑进行步进运动,所述工件台单元控制硅片进行扫描运动。
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