[实用新型]提高气流均匀性的窗格装置有效

专利信息
申请号: 201220001638.3 申请日: 2012-01-04
公开(公告)号: CN202417238U 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 罗恩·穆勒;徐俊成 申请(专利权)人: 北京七星华创电子股份有限公司
主分类号: E06B7/04 分类号: E06B7/04;B01D46/12
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 韩国胜;王莹
地址: 100016 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及半导体制造领域,公开了一种提高半导体洁净室气流均匀性的窗格装置,包括:叠装一起的第一层过滤网和第二层过滤网,及用于固定所述第一层过滤网和第二层过滤网的边缘的框架;所述第一层过滤网的网孔和第二层过滤网的网孔呈交叉排列,所述框架固定安装在洁净室的内壁上,位于风机过滤器的下方。该窗格装置采用网孔呈交叉排列的双层过滤网结构,该窗格结构空气背压低,气流填充效果好,大大地提高了微小颗粒的过滤效果,提高了半导体洁净室内气体流动的均匀性,进而改善了气流中所携带微小颗粒在硅片表面沉积的情况。
搜索关键词: 提高 气流 均匀 装置
【主权项】:
一种提高气流均匀性的窗格装置,其特征在于,包括:叠装一起的第一层过滤网和第二层过滤网,及用于固定所述第一层过滤网和第二层过滤网的边缘的框架;所述第一层过滤网的网孔和第二层过滤网的网孔呈交叉排列,所述框架固定安装在洁净室的内壁上,位于风机过滤器的下方。
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