[实用新型]提高气流均匀性的窗格装置有效
申请号: | 201220001638.3 | 申请日: | 2012-01-04 |
公开(公告)号: | CN202417238U | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 罗恩·穆勒;徐俊成 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | E06B7/04 | 分类号: | E06B7/04;B01D46/12 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜;王莹 |
地址: | 100016 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体制造领域,公开了一种提高半导体洁净室气流均匀性的窗格装置,包括:叠装一起的第一层过滤网和第二层过滤网,及用于固定所述第一层过滤网和第二层过滤网的边缘的框架;所述第一层过滤网的网孔和第二层过滤网的网孔呈交叉排列,所述框架固定安装在洁净室的内壁上,位于风机过滤器的下方。该窗格装置采用网孔呈交叉排列的双层过滤网结构,该窗格结构空气背压低,气流填充效果好,大大地提高了微小颗粒的过滤效果,提高了半导体洁净室内气体流动的均匀性,进而改善了气流中所携带微小颗粒在硅片表面沉积的情况。 | ||
搜索关键词: | 提高 气流 均匀 装置 | ||
【主权项】:
一种提高气流均匀性的窗格装置,其特征在于,包括:叠装一起的第一层过滤网和第二层过滤网,及用于固定所述第一层过滤网和第二层过滤网的边缘的框架;所述第一层过滤网的网孔和第二层过滤网的网孔呈交叉排列,所述框架固定安装在洁净室的内壁上,位于风机过滤器的下方。
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