[实用新型]掩模板夹持框有效
| 申请号： | 201220010170.4 | 申请日： | 2012-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN202533708U | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种掩模板夹持框，其特征在于，包括主框架、连杆、固定夹头和活动夹头，所述连杆设置于所述主框架上，所述固定夹头固定于所述连杆的一端，所述活动夹头设置于所述连杆的另一端并可在所述连杆上滑动，所述固定夹头和活动夹头用于夹持带外框的掩模板。本实用新型提供一种掩模板夹持框,其可以满足不同尺寸带外框的掩模板的承载固定，可以适应实际生产中同一检测平台不同尺寸带外框的掩模板的测定，且以活动夹头的设置更易于带外框的掩模板的夹持与拆装，生产成本低，效率高，具有广阔的市场前景。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 夹持 | ||
【主权项】：
一种掩模板夹持框，其特征在于，包括主框架、连杆、固定夹头和活动夹头，所述连杆设置于所述主框架上，所述固定夹头固定于所述连杆的一端，所述活动夹头设置于所述连杆的另一端并可在所述连杆上滑动，所述固定夹头和活动夹头用于夹持带外框的掩模板。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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