[实用新型]用于光刻系统的光能量监测系统有效
| 申请号： | 201220013378.1 | 申请日： | 2012-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN202472238U | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 何少锋 | 申请（专利权）人： | 合肥芯硕半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01J1/00 |
| 代理公司： | 合肥金安专利事务所 34114 | 代理人： | 王挺 |
| 地址： | 230601 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体及PCB行业制造光刻领域中的光刻设备，具体涉及一种用于光刻系统的光能量监测系统。本系统包括光源、光传输组件、投影曝光组件；所述光源与光传输组件之间的光路和/或光传输组件与投影曝光组件之间的光路上设置有监测光强的第一感光探头，所述投影曝光组件的出射端设置有监测光强的第二感光探头；所述第一感光探头和第二感光探头的信号输出端均与计算机相连。本光能量监测系统中的计算机根据第一感光探头和第二感光探头所探测到的光强的比值，自动调整或发出警报并人工调整光源的功率，从而确保基片处的曝光光强保持恒定，进而保证了光刻系统的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 系统 能量 监测 | ||
【主权项】：
一种用于光刻系统的光能量监测系统，其特征在于：本系统包括光源、光传输组件、投影曝光组件；所述光源与光传输组件之间的光路和/或光传输组件与投影曝光组件之间的光路上设置有监测光强的第一感光探头，所述投影曝光组件的出射端设置有监测光强的第二感光探头；所述第一感光探头和第二感光探头的信号输出端均与计算机相连。
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