[实用新型]用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置有效
| 申请号： | 201220013533.X | 申请日： | 2012-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN202486436U | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 张昌清;李文静;何少峰;刘文海 | 申请（专利权）人： | 合肥芯硕半导体有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;G03F7/20 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 方峥 |
| 地址： | 230601 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置，包括有两个激光光源，分别为激光光源一、激光光源二，还包括有一个分光棱镜，激光光源一、激光光源二分别位于分光棱镜的正上方、正左方，激光光源一、激光光源二发射的光束分别垂直入射到分光棱镜的分光面上，激光光源一的光束经分光棱镜反射后与经分光棱镜后透射的激光光源二的光束合并成一束光束。本实用新型具有高合光效率、无光束位置偏移，通过两束光束的叠加，一定程度上降低了光源的相干性，提高了照明的均匀性，并且降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 无掩膜 光刻 投影 曝光 系统 偏振 装置 | ||
【主权项】：
一种用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置，包括有两个激光光源，分别为激光光源一、激光光源二，其特征在于：还包括有一个分光棱镜，所述激光光源一、激光光源二分别位于分光棱镜的正上方、正左方，激光光源一、激光光源二发射的光束分别垂直入射到分光棱镜的分光面上，激光光源一的光束经分光棱镜反射后与经分光棱镜后透射的激光光源二的光束合并成一束光束。
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