[实用新型]一种掩膜版、曝光装置及系统

摘要

本实用新型提供了一种掩膜版、曝光装置及系统，曝光装置包括掩膜版和曝光计测装置，所述曝光计测装置包括摄像机Camera与间隙传感器Gap sensor，曝光系统包括曝光装置和曝光机。所述曝光装置中的掩膜版上设置有间隙窗Gap Window和对位标识Mark，所述Gap Window与对位Mark之间的相对位置与所述Camera与Gap sensor之间的相对位置一致，当进行曝光计测时，可实现Gap和Alignment同时计测，相应的，曝光系统中曝光机的操作界面中包括Gap和Alignment同时计测模式。在曝光过程中，由于Gap计测和Alignment计测同时进行，因此节省了曝光计测的时间。

主权项

一种掩膜版，所述掩膜版上设置有对位标识和间隙窗，其特征在于，所述掩膜版上间隙窗与对位标识之间的相对位置、和摄像机与间隙传感器之间的相对位置是一致的。