[实用新型]核岛反应堆基础底部压力灌浆装置、灌浆系统有效
申请号: | 201220057161.0 | 申请日: | 2012-02-21 |
公开(公告)号: | CN202543942U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 伍崇明;刘天宇;赵景发;张炳畅;陈尚瑞;刘向荣;闫沛;王佩;张洪强 | 申请(专利权)人: | 中国核工业第二四建设有限公司 |
主分类号: | E02D15/02 | 分类号: | E02D15/02 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 高尚梅 |
地址: | 065201 河北省廊*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型及一种核岛反应堆基础底部压力灌浆装置,包括置于基层面凹槽内的灌浆管,其特征在于:还包括直线并排均匀距离固定在基层面凹槽两侧的若干个灌浆管固定支架,所述灌浆管穿过该若干个灌浆管固定支架的内部,还包括固定在该若干个灌浆管固定支架上的若干个灌浆料液面检测装置。本实用新型还涉及一种由该灌浆装置构成的灌浆系统。本实用新型对灌浆装置、灌浆系统以及灌浆方法进行了改进,采用灌浆液面检测装置的设计,解决了空间狭小,并且面积大的灌浆区域灌浆料的密实难题;可以观察灌浆过程中控制各灌浆管的灌浆速度;避免灌浆管拔出液面后,空气由灌浆料引入影响灌浆质量。 | ||
搜索关键词: | 反应堆 基础 底部 压力 灌浆 装置 系统 | ||
【主权项】:
一种核岛反应堆基础底部压力灌浆装置,包括在基层面(3)上设置的凹槽和置于该凹槽内的灌浆管(1),其特征在于:还包括并排均匀距离固定在基层面(3)凹槽上的若干个灌浆管固定支架(2),所述灌浆管(1)穿过该若干个灌浆管固定支架(3)的内部;所述每个灌浆管固定支架(3)上固定有两个不接触的测量探头和一个LED灯(4),所述两个测试探头触头一端位于同一水平面上,该两个测试探头的另一端分别外接连接电源一端和所述LED灯(4)一端,所述外接电源另一端与所述LED灯(4)另一端连接。
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