[实用新型]具有加热媒介的薄膜沉积设备有效
申请号: | 201220078618.6 | 申请日: | 2012-03-06 |
公开(公告)号: | CN202465869U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 林朝晖;王树林 | 申请(专利权)人: | 泉州市博泰半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362000 福建省泉州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有加热媒介的薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备用来在基板表面沉积薄膜,所述薄膜沉积设备具有间隔交替放置的复数个接地电极板和激励电极板,所述基板安装在接地电极板上,其特征在于:所述加热媒介位于所述复数个电极板之间,或位于激励电极板表面,或位于所述复数个电极板的周围。本实用新型的具有加热媒介的薄膜沉积设备能够将所需的加热工序整合到沉积工艺当中,在沉积工艺过程中根据需要随时对基板进行加热,提高了工艺可靠性和稳定性以及生产效率,降低了对基板造成污染的几率。 | ||
搜索关键词: | 具有 媒介 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种具有加热媒介的薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备用来在基板表面沉积薄膜,所述薄膜沉积设备具有间隔交替放置的复数个接地电极板和激励电极板,所述基板安装在接地电极板上,其特征在于:所述加热媒介位于所述复数个电极板之间,或位于激励电极板表面,或位于所述复数个电极板的周围。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的