[实用新型]一种溅射靶材有效

专利信息
申请号: 201220091436.2 申请日: 2012-03-12
公开(公告)号: CN202530154U 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 高岩;何金江;郭力山;曾浩 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/14
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 薄观玖
地址: 100088 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了属于溅射靶材技术领域的一种溅射靶材。所述背板具有一凹槽,该凹槽为圆柱形凹槽或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凹槽,该凹槽用以容纳靶坯的嵌入,所述靶坯具有一凸起,该凸起为圆柱形凸起或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凸起,该凸起与背板上的凹槽相对应,用以嵌入相应的背板中,所述靶坯的凸起嵌入所述背板的凹槽内。本实用新型能够最大量的提高靶材的有效溅射厚度,延长靶材的溅射寿命。本实用新型的溅射靶材因靶厚度的加深,使得靶材的寿命提高了至少30%,具有非常好的实际意义。
搜索关键词: 一种 溅射
【主权项】:
一种溅射靶材,包括靶材和背板,其特征在于:所述背板具有一凹槽,该凹槽为圆柱形凹槽或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凹槽,该凹槽用以容纳靶坯的嵌入,所述靶坯具有一凸起,该凸起为圆柱形凸起或者为直径向内侧逐渐减小的阶梯式凸起,该凸起与背板上的凹槽相对应,用以嵌入相应的背板中,所述靶坯的凸起嵌入所述背板的凹槽内。
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