[实用新型]一种曝光装置有效
| 申请号： | 201220098028.X | 申请日： | 2012-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN202453606U | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 王耸;万冀豫;吴洪江 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显示技术中曝光工艺领域，特别是涉及一种实现多灰阶的曝光装置。该曝光装置包括：曝光区域控制单元，用于界定曝光区域和非曝光区域；光量调控单元，位于曝光区域控制单元的上方，用于调控通过所述曝光区域控制单元照射到曝光区域的光透过量。本实用新型提供的曝光装置，采用曝光单元和光量调控单元共同作用，可有效实现同一膜层多灰阶不同厚度的定点精确控制，并且结构简单，操作方便，可最大程度地节省曝光工艺所需的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，适用于掩膜曝光工艺，其特征在于，包括：曝光区域控制单元，用于界定曝光区域和非曝光区域；光量调控单元，位于所述曝光区域控制单元的上方，用于调控通过所述曝光区域控制单元照射到所述曝光区域的光透过量。
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