[实用新型]石墨盘及异形衬底有效
| 申请号： | 201220100977.7 | 申请日： | 2012-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN202705461U | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 梁秉文;赵茂盛 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供用于化学气相沉积工艺的石墨盘和异形衬底，所述石墨盘具有用于放置衬底的凹槽，所述凹槽为异形凹槽，所述异形凹槽中放置异形衬底，所述异形凹槽和异形衬底用于增大石墨盘的利用率。本实用新型通过在石墨盘中放置异形衬底，提高了石墨盘的利用率，提高了化学气相沉积设备的产量，降低了外延芯片的成本，满足了应用的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 异形 衬底 | ||
【主权项】：
一种用于化学气相沉积工艺的石墨盘，具有用于放置衬底的凹槽，其特征在于，所述凹槽为异形凹槽，所述异形凹槽中放置异形衬底，所述异形凹槽的形状与所述异形衬底的形状对应，所述异形衬底为圆形衬底以外的衬底，所述异形凹槽和异形衬底用于增大石墨盘的利用率。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
