[实用新型]一种研磨抛光机的研磨液滴加装置有效

专利信息
申请号: 201220110813.2 申请日: 2012-03-22
公开(公告)号: CN202825562U 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 曾雨晴 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: B24B57/02 分类号: B24B57/02;B24B37/34
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种研磨抛光机的研磨液滴加装置。本实用新型提出一种研磨抛光机的研磨液滴加装置,通过将研磨液盛放在塑料瓶体内且置于可调节高度的金属底座上,由于金属底座的位置可自由摆放所以能方便调节研磨液的滴加位置,并通过调节滴加头上的活塞来调节研磨液的滴加速率,从而避免一次性加入过多研磨液而导致研磨液的浪费,同时也可以通过控制研磨液的滴加速度,来保持稳定的研磨速率,使样品更加平整,提高研磨效率。
搜索关键词: 一种 研磨 抛光机 液滴加 装置
【主权项】:
一种研磨抛光机的研磨液滴加装置,其特征在于,包括底座、瓶体和滴加头,所述瓶体固定设置在底座上,所述滴加头套设在瓶口上。
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