[实用新型]一种研磨抛光机的研磨液滴加装置有效
申请号: | 201220110813.2 | 申请日: | 2012-03-22 |
公开(公告)号: | CN202825562U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 曾雨晴 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B24B37/34 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种研磨抛光机的研磨液滴加装置。本实用新型提出一种研磨抛光机的研磨液滴加装置,通过将研磨液盛放在塑料瓶体内且置于可调节高度的金属底座上,由于金属底座的位置可自由摆放所以能方便调节研磨液的滴加位置,并通过调节滴加头上的活塞来调节研磨液的滴加速率,从而避免一次性加入过多研磨液而导致研磨液的浪费,同时也可以通过控制研磨液的滴加速度,来保持稳定的研磨速率,使样品更加平整,提高研磨效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 研磨 抛光机 液滴加 装置 | ||
【主权项】:
一种研磨抛光机的研磨液滴加装置,其特征在于,包括底座、瓶体和滴加头,所述瓶体固定设置在底座上,所述滴加头套设在瓶口上。
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