[实用新型]真空镀膜用的离子轰击结构有效
申请号: | 201220130244.8 | 申请日: | 2012-03-31 |
公开(公告)号: | CN202595253U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 赵铭 | 申请(专利权)人: | 广东友通工业有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 东莞市创益专利事务所 44249 | 代理人: | 李卫平 |
地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及真空镀膜用的离子轰击结构,其包括有轰击棒,轰击棒后端与电极连接,电极与电缆电性连接,电极通过绝缘套固定安装在相应的载体;所述轰击棒与电极同轴设置,轰击棒与电极之间通过螺纹连接。电极与电缆连接的一端设有螺纹段,螺纹段连接的螺母固定电缆与电极的连接。本实用新型设计的真空镀膜用的离子轰击结构,可实现轰击棒通电配合氩气产生放电获得等离子,并以等离子撞击工件表面,使工件表面的污垢离化,从而达到清洁的功效,结构简单,科学合理,投资成本低,体积小巧,安装、使用方便,大大提升工件表面清洁的效率和质量,从而提升真空镀膜的功效和品质。 | ||
搜索关键词: | 真空镀膜 离子 轰击 结构 | ||
【主权项】:
真空镀膜用的离子轰击结构,其特征在于:包括有轰击棒(1),轰击棒(1)后端与电极(2)连接,电极(2)与电缆电性连接,电极(2)通过绝缘套(4)固定安装在相应的载体(3)。
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