[实用新型]一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置有效
| 申请号： | 201220201172.1 | 申请日： | 2012-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN202595260U | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 翟宇宁;李毅;刘志斌;宋光耀 | 申请（专利权）人： | 深圳市创益科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 | 代理人： | 张艺影;李奕晖 |
| 地址： | 518029 广东省深圳市福田区深南大道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，属于磁控溅射技术领域，解决连续磁控溅射镀膜装置中阴极装置的磁体极性的调整问题。本实用新型用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，包括真空室及阴极靶，该阴极靶的靶托上装有靶材、水冷背板，其主要技术特征是阴极靶上装有多套磁体，每套磁体均由外环电磁体和中间电磁体构成，该电磁体与直流电源连接。本实用新型可以控制相邻阴极的磁极极性，配合膜层组合的需求以提高膜层质量，通过直流电源控制励磁线圈电流的大小，调节磁体表面磁场的强度和分布。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 连续 磁控溅射 镀膜 阴极 装置 | ||
【主权项】：
一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，包括真空室及阴极靶，该阴极靶的靶托上装有靶材、水冷背板，其特征在于所述阴极靶上装有多套磁体，每套磁体均由外环电磁体和中间电磁体构成，该电磁体与直流电源连接。
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