[实用新型]晶体硅太阳能电池镀膜设备

摘要

本实用新型涉及一种太阳能电池的镀膜设备，具体涉及一种晶体硅太阳能电池镀膜设备，包括反应腔室和硅片载板，硅片载板位于反应腔室中部，另外还包括上进气孔、下进气孔，上等离子源、下等离子源，反应腔室两侧的排气孔，与排气孔外接的真空泵和均匀分布于反应腔室上下内表面的加热装置，该设备可以同时进行正面减反射膜及背面钝化膜的制备，使得设备及工艺流程简化，适用于工业化生产。

主权项

一种晶体硅太阳能电池镀膜设备，包括反应腔室和硅片载板，其特征在于，硅片载板位于反应腔室中部，另外还包括反应腔室上方的上进气孔，下方的下进气孔，反应腔室两侧的排气孔，硅片载板上方的上等离子源及硅片载板下方的下等离子源，与排气孔外接的真空泵和均匀分布于反应腔室上下内表面的加热装置。