[实用新型]一种真空镀膜装置及真空镀膜控制系统有效
申请号: | 201220237101.7 | 申请日: | 2012-05-21 |
公开(公告)号: | CN202595269U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 陈军;刘黎明;关永卿;洪婧;陈虹飞;田俊杰;汪文忠;邓凤林;郑栋;将卫金;赵山泉 | 申请(专利权)人: | 杭州大和热磁电子有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/54 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 310053 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种真空镀膜装置及真空镀膜控制系统,包括真空腔体、真空泵和低温泵,真空腔体的顶部设有伞架,伞架上放置待镀膜的基片,真空腔体内设有e型电子枪,在电子枪内设有排列成圈并可沿圆心转动的坩埚,坩埚内放置有镀膜材料,低温泵与真空腔体的连接管上设计有插板阀,本实用新型采用多个坩埚分别放置不同的镀膜材料,一次完成多层次的镀膜作业,可控开口度的插板阀可精确控制真空腔体内的真空度和气体分布,防止低温泵的冷端因吸入过多的气体而提前饱和失效,在红外辐射加热基片时,也可减少高温热量的辐射对低温泵的影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 装置 控制系统 | ||
【主权项】:
一种真空镀膜装置,包括真空腔体(1)、与真空腔体连接的真空泵(2)和低温泵(3),所述真空腔体的顶部设有伞架(4),所述伞架上放置待镀膜的基片(5),在真空腔体的下部设有e型电子枪(6),在电子枪内设有坩埚(7),所述坩埚内放有镀膜材料,真空腔体上设有观察窗(8),其特征在于:所述e型电子枪内设有排列成一圆圈并可沿圆心转动的坩埚位,所述坩埚设在坩埚位上,所述坩埚位包括一个加热位(9)和若干个存放位(10),所述坩埚加热位的上方设有挡板(11),所述挡板为活动式,所述低温泵与真空腔体的连接管上设有插板阀(12)。
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