[实用新型]用于化学制程的支架有效
| 申请号： | 201220240675.X | 申请日： | 2012-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN202693993U | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 杜武兵;邓阿庆 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F1/64 |
| 代理公司： | 深圳市维邦知识产权事务所 44269 | 代理人： | 王昌花 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种用于化学制程的支架，包括支架本体，所述支架本体上设置有用于容置版材的容置腔，所述容置腔至少一侧壁上设置有若干用于卡置所述版材的卡槽。本实用新型实施例的用于化学制程的支架，通过于支架上设置若干阵列排布的卡槽，实现版材的批量制程，有效提高版材的化学制程效率，降低生产成本，同时，还能加强套版的套合精度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 支架 | ||
【主权项】：
一种用于化学制程的支架，其特征在于，包括支架本体，所述支架本体上设置有用于容置版材的容置腔，所述容置腔至少一侧壁上设置有若干用于卡置所述版材的卡槽。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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