[实用新型]一种二极管清洗设备有效
| 申请号： | 201220251473.5 | 申请日： | 2012-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN202871756U | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 黄惠平;王秋霜;刘秀琴;潘建强 | 申请（专利权）人： | 常州佳讯光电产业发展有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B08B3/12 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 何学成 |
| 地址： | 213181 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种二极管清洗设备，包括操作台，所述的操作台上依次设置有，超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽，所述的超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽顺序连接；所述的设备还包括用于启动操作台平移的平移气缸以及用于启动操作台升降的升降气缸。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 清洗 设备 | ||
【主权项】：
一种二极管清洗设备，其特征在于：包括操作台，所述的操作台上依次设置有，超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽，所述的超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽顺序连接；所述的设备还包括用于启动操作台平移的平移气缸以及用于启动操作台升降的升降气缸。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
