[实用新型]一种激光分离加工光学晶体的装置有效
申请号: | 201220292836.X | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN202639654U | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 段军;邓磊敏;曾晓雁;蒋明 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B23K26/38 | 分类号: | B23K26/38;B23K26/06;B23K26/42 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种激光分离加工光学晶体的装置,先在光学晶体的凸凹不平表面上沿激光分离加工的轨迹进行简单粗磨擦抛光,将表层的水解雾化层和杂质清除干净,形成了一条宽度大于激光入射光斑直径的透明轨迹;再将相同光学晶体材料的饱和溶液均匀涂抹到擦拭过的光学晶体表面,将光学晶体表面凸凹不平填平;最后采用激光沿着光学晶体饱和溶液的轨迹进行扫描分离加工。装置包括激光加工系统和涂液系统,激光聚焦装置、涂液装置、擦拭装置、抛光装置和打磨装置沿X轴方向依次安装在直线移动机构上。可获得无碎裂、分离精度高、分离加工口陡峭、分离面平滑切割且分离质量高的光学晶体薄片,并能有效抑制激光温度过高而导致的负面效应。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 分离 加工 光学 晶体 装置 | ||
【主权项】:
一种激光分离加工光学晶体的装置,包括激光聚焦装置和直线移动机构,其特征在于,该装置还包括涂液系统,涂液系统包括打磨装置、抛光装置、擦拭装置和涂液装置,涂液装置用于在激光分离加工光学晶体表面涂相同光学晶体材料的饱和溶液,以直线移动机构的移动方向为X轴方向,激光聚焦装置、涂液装置、擦拭装置、抛光装置和打磨装置沿X轴方向依次安装在直线移动机构上。
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