[实用新型]一种用于真空溅镀的靶材有效
申请号: | 201220296909.2 | 申请日: | 2012-06-25 |
公开(公告)号: | CN202705457U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 郑志铭 | 申请(专利权)人: | 浙江柏腾光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/14 |
代理公司: | 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 | 代理人: | 王鹏举 |
地址: | 313300 浙江省湖州市安吉县递*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种靶材,尤其涉及一种用于真空溅镀的靶材。一种用于真空溅镀的靶材,所述靶材为金属靶A和金属靶B两两交错固定连接。本实用新型解决了真空溅镀需要两块靶材的成本浪费的问题,用一块靶材达到了两块靶材所达到的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 真空 | ||
【主权项】:
一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述靶材为金属靶A(1)和金属靶B(2)两两交错固定连接。
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