[实用新型]一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备有效
申请号: | 201220296951.4 | 申请日: | 2012-06-19 |
公开(公告)号: | CN202649668U | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 罗丽平;贠向南;许朝钦;金基用;周子卿;孙增标;路光明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20;B08B5/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及显示技术领域,特别是涉及一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备。该清洁系统包括:掩膜板存储装置,用于存储掩膜板;机械手,用于搬运掩膜板;微粒检测装置,位于掩膜板存储装置的上方,用于对掩膜板的上下表面进行扫描并将扫描信息发送给控制装置;掩膜板清洁装置,用于清洁经微粒检测装置检测后的掩膜板;控制装置,用于根据接收到的扫描信息控制掩膜板清洁装置的开启/闭合;电气提供装置,与上述部件电气连接,用于对上述部件提供动力能源。本实用新型提供的掩膜板自动清洁系统及曝光设备,可自动对掩膜板进行清洁,提高清洁效率;清洁过程简单、快速,并且清洁效果好,同时该清洁系统操作简便,可节省大量人力成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 自动 清洁 系统 曝光 设备 | ||
【主权项】:
一种掩膜板自动清洁系统,其特征在于,包括:掩膜板存储装置,用于存储掩膜板;机械手,用于搬运所述掩膜板;微粒检测装置,位于所述掩膜板存储装置的上方,用于对所述掩膜板的上下表面进行扫描,并将扫描信息发送给控制装置;掩膜板清洁装置,位于所述掩膜板存储装置的上方并与所述微粒检测装置一体形成封闭的清洁腔室,所述掩膜板清洁装置用于清洁经所述微粒检测装置检测后的掩膜板;控制装置,用于根据接收到的扫描信息控制所述掩膜板清洁装置的开启/闭合;电气提供装置,用于提供动力能源。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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