[实用新型]共晶机有效
| 申请号： | 201220318962.8 | 申请日： | 2012-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN202662572U | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 杨勇平;何永基 | 申请（专利权）人： | 杨勇平 |
| 主分类号： | H01L21/60 | 分类号： | H01L21/60 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 421213 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种共晶机，所述共晶机包括进料装置、传送装置、预加热装置、加热装置及收料装置；所述预加热装置及所述加热装置设置于所述进料装置与所述出料装置之间，所述进料装置、预加热装置、加热装置及收料装置通过所述传送装置相连接；所述加热装置上还设有一真空密封装置，所述传送装置上设有固定装置。本实用新型的有益效果在于：解决了共晶过程中焊料层因气泡而引起的空洞问题，有效增进共晶焊料的流淌。从而保证了LED芯片的可靠性，提高了产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 共晶机 | ||
【主权项】：
一种共晶机，其特征在于：包括进料装置、传送装置、预加热装置、加热装置及收料装置；所述预加热装置及所述加热装置设置于所述进料装置与所述出料装置之间，所述进料装置、预加热装置、加热装置及收料装置通过所述传送装置相连接；所述加热装置上还设有一真空密封装置，所述传送装置上设有固定装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
