[实用新型]大气压等离子处理系统有效

专利信息
申请号: 201220335340.6 申请日: 2012-07-11
公开(公告)号: CN203013672U 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 岩城范明 申请(专利权)人: 富士机械制造株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 穆德骏;谢丽娜
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型提供一种高实用性的大气压等离子处理系统。在大气压下进行等离子处理的系统中,具备:(a)排成一列地配置的多个腔室(34);(b)将相邻的两个腔室连通的一个以上连通路(42、44);(c)经由连通路并通过腔室内而搬运基板(54)的搬运装置(50);(d)能够在各腔室内在大气压下产生等离子体的多个等离子头(38);(e)喷出气体以将各连通路遮断并通过该喷出的气流而将相邻的腔室间隔开的一个以上分隔装置(62、64);对于通过搬运装置搬运的被处理物,在多个腔室内依次实施等离子处理。通过这种结构,能够缩短多个等离子处理所需的时间,并且能够通过喷出的气流抑制在各腔室内使用的反应气体的混合。
搜索关键词: 大气压 等离子 处理 系统
【主权项】:
一种大气压等离子处理系统,其特征在于,具备: 多个腔室,排成一列地配置; 一个以上腔室间连通路,各个腔室间连通路分别将所述多个腔室中的相邻的两个腔室连通; 搬运装置,经由所述一个以上腔室间连通路并通过所述多个腔室内来搬运被处理物; 多个大气压等离子发生装置,与所述多个腔室对应设置,并且,各个大气压等离子发生装置分别能够在所述多个腔室中的与所述各个大气压等离子发生装置本身对应的腔室内部在大气压下产生等离子体;及 一个以上腔室间分隔装置,与所述一个以上腔室间连通路对应设置,并且,各个腔室间分隔装置分别喷出气体以遮断所述一个以上腔室间连通路中的与所述各个腔室间分隔装置本身对应的腔室间连通路,利用所喷出的气流将相邻的两个腔室之间隔开; 在所述多个腔室内依次对由所述搬运装置搬运的被处理物实施等离子处理。
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